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GE被美《R&D》雜志評為“全球最佳R&D公司”
    2007-11-28    作者:壽川    來源:《市場報》2007-11-28 第14版
    本報訊 日前,美國權(quán)威科學(xué)技術(shù)雜志《R&D》雜志評選出全球十家“最佳R&D公司”,GE名列前茅。同時,GE還被選為“最成功應(yīng)對人類科技挑戰(zhàn)的公司”,即在解決能源短缺、全球變暖、環(huán)境污染以及疾病防治等影響人類未來生存的重大問題方面最有成效的公司;在“研發(fā)人員最理想的工作之選”評選中,成為研發(fā)人員評價最高并且最向往加入的企業(yè)。該評選是由R&D雜志在今年9月份,通過對全球130家研發(fā)實力強大的公司在包括知識產(chǎn)權(quán)、社區(qū)服務(wù)、財務(wù)狀況在內(nèi)的多項分析和讀者反饋調(diào)研得出的結(jié)果。
    GE公司高級副總裁Mark Little表示,本次評選是對于GE在研發(fā)方面努力的認(rèn)可。在過去的10年,GE投資了上千億美元用于擴大在美國、歐洲及亞洲研發(fā)力量的建設(shè)和投入。GE公司在可再生能源、納米技術(shù)、生化科技、安防等技術(shù)的研發(fā)方面都做出了巨大的努力。今天,GE在全球擁有四個研發(fā)中心,分別設(shè)在美國紐約、印度班加羅爾、中國上海和德國慕尼黑。
    GE中國研發(fā)中心每年完成100多個研究項目,其中包括1/3左右的基礎(chǔ)科研項目。截至2006年底,GE中國研發(fā)中心共申請了200多項專利。
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